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Qorvo的6寸晶圓工藝有突破,GaN器件產(chǎn)能將實(shí)現(xiàn)翻倍

 關(guān)鍵字:Qorvo  GaN器件  6寸晶圓  科學(xué)實(shí)驗(yàn)?zāi)K

日前消息,RF解決方案供應(yīng)商Qorvo(原RFMD和TriQuint)宣布,已成功地將專有的碳化硅(SiC)基QGaN25氮化鎵(GaN)工藝技術(shù)擴(kuò)展用于在6英寸晶圓上生產(chǎn)單片微波集成電路(MMIC)。預(yù)計(jì)從4英寸過(guò)渡到6英寸晶圓,大約能使Qorvo公司的碳化硅基氮化鎵生產(chǎn)能力增加一倍,并且有利于降低制造成本——對(duì)價(jià)格實(shí)惠的射頻器件生產(chǎn),能起到顯著的推進(jìn)作用。

 

“在6英寸晶圓上實(shí)現(xiàn)碳化硅基氮化鎵單片微波集成電路,為顯著提高生產(chǎn)能力和成本效益鋪平了道路”,Qorvo公司的基礎(chǔ)設(shè)施和國(guó)防產(chǎn)品部(IDP)總裁James Klein表示。“這是一個(gè)重要的里程碑,鞏固了Qorvo在商業(yè)和國(guó)防市場(chǎng)提供一流工藝和GaN產(chǎn)品的領(lǐng)導(dǎo)地位。”

 

Qorvo成功地證明,其高產(chǎn)、X波段功率放大器(PA)單片微波集成電路(MMIC)的QGaN25生產(chǎn)工藝可成功地從4英寸擴(kuò)展到6英寸碳化硅基氮化鎵晶圓。這同樣有助于將公司的所有碳化硅基氮化鎵生產(chǎn)工藝轉(zhuǎn)換到6英寸晶圓,柵極長(zhǎng)度范圍為0.15 um至0.50 um,涵蓋整個(gè)微波至mmW應(yīng)用領(lǐng)域。預(yù)計(jì)將于2016年實(shí)現(xiàn)全面生產(chǎn)。

 

12瓦X波段的點(diǎn)對(duì)點(diǎn)MMIC功率放大器,符合80%以上的直流和射頻收益率要求,引領(lǐng)行業(yè)發(fā)展。這一工藝可行性為高速生產(chǎn)商用收發(fā)器基站(BTS)和點(diǎn)對(duì)點(diǎn)無(wú)線電、CATV及國(guó)防產(chǎn)品奠定了基礎(chǔ)。

 

晶圓尺寸擴(kuò)展進(jìn)一步鞏固了其作為美國(guó)國(guó)防部制造電子局認(rèn)可的1A類供應(yīng)商(1A Trusted Source)的領(lǐng)導(dǎo)地位。Qorvo于2014年完成DPA Title III碳化硅基氮化鎵項(xiàng)目,是首個(gè)達(dá)到制造成熟度(MRL)9級(jí)的公司,表明其高性能制造工藝可以投入全面生產(chǎn)。

 

美國(guó)國(guó)防部的制造成熟度評(píng)估(MRA)確保制造、生產(chǎn)和質(zhì)量要求能夠滿足作戰(zhàn)任務(wù)需求。該過(guò)程確保產(chǎn)品或系統(tǒng)從工廠順利過(guò)渡到現(xiàn)場(chǎng),為客戶提供最高的價(jià)值,并滿足全部性能、成本和產(chǎn)能目標(biāo)。

 

 

 

 
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