關(guān)鍵字:7nm工藝 TSMC臺積電 Xilinx 電子實驗室模塊
雙方合作將為賽靈思帶來在多節(jié)點擴(kuò)展的優(yōu)勢,并進(jìn)一步延續(xù)其在 28nm、20nm 和 16nm 工藝節(jié)點所實現(xiàn)的出色的產(chǎn)品、執(zhí)行力和市場成功。
“臺積公司是我們在 28nm、20nm 和 16nm 實現(xiàn)‘三連冠(3 Peat)’成功的堅實基礎(chǔ)。其出色的工藝技術(shù)、3D 堆疊技術(shù)和代工廠服務(wù),讓賽靈思在出色的產(chǎn)品、優(yōu)異的品質(zhì)、強(qiáng)大的執(zhí)行力以及領(lǐng)先的市場地位上享有了無與倫比的聲譽(yù)。同時,他們還助力賽靈思產(chǎn)品組合成功轉(zhuǎn)型至新一代的 SoC、MPSoC 和 3D IC,進(jìn)一步補(bǔ)充和完善了我們世界級的 FPGA 產(chǎn)品。我們相信臺積公司的 7nm 技術(shù)將會為賽靈思帶來更大的變革。”
——Moshe Gavrielov,賽靈思公司總裁兼 CEO
“臺積公司非常高興能夠和賽靈思一起實現(xiàn)其第四代突破性產(chǎn)品。基于兩家公司一貫良好的協(xié)作與執(zhí)行力記錄,我們此次合作將為賽靈思帶來向新一代擴(kuò)展和3D集成的優(yōu)勢。”
——劉德音(Mark Liu) 博士,臺積公司總經(jīng)理兼聯(lián)合 CEO
賽靈思計劃于 2017 年推出 7nm 產(chǎn)品。今年稍早,臺積電宣布采用配備80W光源的ASML NXE:3300B EUV微影系統(tǒng),在24小時內(nèi)曝光1,000片晶圓,主要用于7nm工藝節(jié)點的研發(fā)和實驗。